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產品簡介: 高真空快速 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-4-RTP-C3HV 是由 4″RTP 爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組 組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火,并采用 10KW 的紅外燈進行加 熱,升溫速度可達 120℃/s,配有 RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。
產品型號 | 高真空快速 CVD 系統(tǒng) OTF-1200X-4-RTP-C3HV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔 1000m 以下, 溫度 25℃±15℃ ,濕度 55%Rh±10%Rh 下使用。 |
1、水:不需要 | |
2、電: AC220V 50Hz,必須有良好接地 | |
3、氣:設備腔室內需充注氣體,需自備氣瓶氣源 | |
4、工作臺: 尺寸 1600mm×600mm×700mm ,承重 150kg 以上 5、通風裝置:需要 | |
主要特點 | 1 、雙層 Al2O3 纖維鋼構,無需水冷或風冷。 |
2、內爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。 | |
3 、PID 控制器, 可以設置 30 段升降溫程序,并設有過熱保護和斷偶功能。 | |
4 、已通過 CE 認證。 | |
技術參數 | 1 、電源: 單相 208V-240V AC 50Hz/60Hz 10KW |
2、石英管: 外徑 ?110mm ,內徑 ?103mm ,長 380mm | |
3、加熱元件: 8 根紅外燈管, 燈絲長 200mm ,絲圈 ?10mm ,燈長 300mm |
4、加熱區(qū): 300mm 5 、工作溫度: 溫度 1100℃ | |
6 、控溫精度:±0.5℃ 7、升溫速度: RT-800℃時為 50℃/s ,800℃-1000℃時為 10℃/s 8、溫控儀:可控硅( SCR)PID 自動控制 9 、真空法蘭: 不銹鋼,帶有水冷接口和針閥,雙層高溫 O 型圈密封,長時間在>900℃條件下 運行必須采用水冷, 循環(huán)水流量為 0.5m3/hr 10、真空度: 10-2torr (機械泵), 10-5torr (分子泵) 11 、質量流量計: 3 個, MFC1 范圍0-100sccm ,MFC2 范圍0-200sccm ,MFC3 范圍0-500sccm, 精度 1±%FS 12、混氣罐: ?80mm×120mm | |
產品規(guī)格 | 尺寸: 爐體 760mm×330mm×530mm ,真空混氣系統(tǒng) 600mm×600mm×597mm 重量: 爐體 45kg ,真空混氣系統(tǒng) 75kg |
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